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  真空镀膜知识
PVD电镀简介及其优点

PVD (Physical Vapor Deposition),物理气相沉积的英文缩写,具有金属汽化的特点,与不同的气体反应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数 PVD 方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。
PVD镀膜是利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以是某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能!
PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)
PVD又叫真空镀膜,真空离子镀钛,真空镀铬,行业内也叫真空电镀或者PVD电镀、PVD涂层。主要是PVD与电镀(液相沉积,电化学沉积)的薄膜形成,成核,生长等具有部分共性,但其原理,反应过程和膜层性能又有本质的区别。
PVD电镀的优点:
1、金属外观,·颜色均匀一致,·颜色深韵、光亮,膜层颜色种类繁多,表面细腻光滑,富有金属光泽,永不褪色。耐久的表面,在各种基本的的空气和直射阳光环境条件下永久保持良好外观。·抗氧化,抗腐蚀。耐腐蚀,化学性能稳定,·抗酸。在常规环境下,户内或者户外,都抗氧化,不褪色,不失去光泽并不留下痕迹。·正常的使用情况下不会破损。在强烈的阳光,咸的湿地和城市环境下,都不失去光泽,不氧化,不褪色,不脱落和爆裂。在烈日、潮湿等恶劣环境中不变色、不脱落,性能稳定。
2、卓越的附着力可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落(PVD镀膜持有很高附着力和耐久力)。其它的技术,包括电镀,喷涂,电泳都不能与其相比。
3、镀层薄,但具有高度耐磨损,耐刮擦,不易划伤。高硬度,低摩擦系数。不会改变基材本身的外观,比如镜面,拉砂纹,蚀刻纹,花纹,CD纹等不会覆盖。
4、可以蚀刻出任何能够想象出的设计图案。
5PVD膜层可镀材料广泛,与基体结合力强。
6、经济,可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。
7、真空离子镀膜技术——对人体和生态环境真正无害。可替代大部分传统化学电镀技术,对环境无害,避免化学中毒,可以使用在内装修或者室外,膜层具有生物相容性,可广泛应用于手表,首饰,手机配件等与皮肤直接接触的产品表面,特别是钛合金涂层,还可应用于生物医疗器械产品上

8、用途广泛,现在主要应用于航空航天,耐高温,高压,抗磨损零件,刀具模具,日用五金,3C电子配件,建筑装饰,电工电子,医学等
 
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