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  真空镀膜知识
PVD技术的新进展

随着PVD技术应用的迅速推广,吸引了国内外专家们和相关企业积极研发,至今无论是PVD沉积技术、PVD的制备工艺,还是PVD设备配套装备与部件,都有了长足的进步。
1. 冷阴极电弧
    阴极电弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流的弧光放电将靶材气化、离化成等离子体状态,从而实现薄膜材料的沉积。最近阴极电弧蒸发源有新的发展,主要是通过有效强制冷却和电磁场独特的设计,在两者共同作用下,使靶材的离化率更高,薄膜性能更加优异。
2. 磁过滤阴极弧
    配以高效的电磁过滤系统,将电弧产生的等离子体中的中性宏观粒子、分子团等大颗粒过滤干净,经磁过滤后沉积粒子的离化率达100%, 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与基体的结合力更强。
3. 柱状或平面状大面积电弧源
保证高离化率的同时,减少大颗粒沉积的比例,达到既有好的附着力,又有较好的表面光洁度效果。
4. 中频磁控溅射
    增加离化率,减少电荷积累引起的异常放电,预防靶表面中毒现象,沉积工艺更稳定。
5. 全封闭非平衡磁控溅射
    通过全封闭非平衡电磁场的作用,极大地提高真空室内的离化率以及沉积速率,增强膜基结合力和薄膜沉积的均匀性。
6. 脉冲高能窄峰直流溅射
    提高瞬间的轰击能量和溅射靶材的离化率(高至50%~60%),接近电弧的离化率。通过电磁场的作用可以大大增加沉积离子的能量,从而改善膜层的结合力和致密性。
7. 阳极层离子源辅助沉积
    提高轰击清洗的质量,特别是可以实现对非导体的镀前清洗,镀膜时辅助沉积,提高沉积粒子的能量,改善膜层的结合力。
8. 纳米复合多层膜
     纳米沉积技术,是涂层结构未来的发展方向,通过纳米级厚度的不同成份沉积层复合结构膜,实现涂层性能的极大增强。
9. 装饰性双色间镀
    单一的颜色PVD涂层已满足不了市场的需求,进而提出双色间镀的要求,这是装饰涂层的发展方向,双色间镀的质量成为代表PVD加工企业的生产技术水平标志。
10. 高能脉冲叠加直流偏压
       减少工件的打火,增加沉积离子能量,增强膜基结合力,提高沉积速率。
11. 超低温捕集泵
通过低温冷凝效应,迅速捕集真空系统内的残余气体,特别是水蒸汽,大大缩短抽真空的时间,获得洁净的真空环境。
12. 分子泵及深冷泵
     绿色环保,大大降低能耗,真空系统抽速稳定,镀膜工艺稳定可靠,重现性好。深冷泵还可以抽排低饱和蒸汽压等难抽气体,保证真空系统的洁净度。
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